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2018/12/28

7奈米之爭白熱化 台積電與對手力拚!差分毫就出局


全球晶圓代工業務發展到7奈米製程,尤其是以EUV (極紫外線,Extreme Ultraviolet)技術,更是需要龐大資金投入研發,成本更是目前使用的 (ArF) 光源搭配浸潤式顯影 (Immersion lithography)的2倍之多,如今只有台灣晶圓代工龍頭台積電以及南韓科技大廠三星電子能夠競爭。

半導體產業為了提升良率,使用先進製程已經是必然,三星、台積電都使用EUV技術來提高精度與產量,台積電預計在2019年起,將EUV 機器用於該公司第二代7奈米製程。然而,EUV的最大缺點就是機器昂貴,業界指出,EUV 機器的成本,逼近目前產線使用的 ArF 工具的2倍,造價約莫是5600至6200 萬美元,EUV 機器價格則是上看1.2 億美元,等於成本大幅提升,這也使得7奈米製程越來越少廠商可以負擔。

半導體產業以摩爾定律為圭臬,努力將限寬縮小,以便在晶片上塞入更多電晶體,越精細的製程技術除了能切割出更多晶片,也能提升效能與降低功耗,先進位程微縮變得困難,價格也會隨之上升,以往隨著製程微縮,成本下降的情況也很難再發生。

據《鉅亨網》報導,集邦科技拓墣產業研究報告指出,目前,三星已導入 EUV 的 7nm LPP 製程,宣稱光罩模塊總數減少約 20%,如今宣告使用7奈米的廠商有蘋果、Samsung、華為、NVIDIA 與 AMD,以及幾個CPU/GPU 重要大廠,為了保持領導地位,三星、台積電投入全力發展,才能在半導體產業的先進製程上拔得頭籌。

(中時電子報)

(出處: 中時經濟 財經 投資自有風險,投資人審慎評估)

 



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